La Fundación Universidad-Empresa, ADEIT, fue el escenario de la Jornada Científica AOFAT (Advanced Oxides For Advanced Technologies), un evento auspiciado por el proyecto PROMETEO 2011/035 y respaldado por la Conselleria d’Educació de la Generalitat Valenciana.
Bajo la coordinación del destacado experto en el campo, Vicente Muñoz Sanjosé, y el comité organizador encabezado por M. Carmen Martínez Tomás y Laura Olivares, la jornada reunió a destacados investigadores en el ámbito de los óxidos avanzados II-VI para explorar las últimas innovaciones en electrónica, sensado y tecnologías fotónicas.
El Grupo de Crecimiento Cristalino y Caracterización de Semiconductores (CreCYCSem), formado por investigadores de la Universidad de Valencia, el Instituto Jaume Almera (CSIC) de Barcelona y la Universidad del País Vasco, destacó la importancia de su actividad investigadora, centrada en el crecimiento cristalino de materiales avanzados, la caracterización morfológica y estructural, así como la evaluación de propiedades físicas, especialmente las ópticas y defectos.
La jornada contó con un programa repleto de conferencias de expertos, destacando presentaciones como "Slope selection-driven Ostwald ripening in ZnO thin film growth" por D. Alejandro González González y "ZnO nanoparticles grown on different substrates" por el Dr. SreeKumar Rajappan. La tarde incluyó una mesa redonda sobre aspectos colaborativos y líneas de desarrollo, concluyendo con la clausura y despedida.
La Jornada Científica AOFAT no solo fomentó el intercambio de conocimientos y experiencias entre investigadores de primer nivel, sino que también consolidó la posición de Valencia como epicentro de la investigación en óxidos avanzados y tecnologías emergentes.
