Grup de creixement cristal·lí i caracterització de semiconductors - CRECYCSEM

Referència del grup:

GIUV2013-072

 
Descripció de l'activitat investigadora:
El grup de creixement cristal·lí de la Universitat de València centra la seua activitat en el creixement i la caracterització estructural i morfològica de semiconductors, tant en volum com en forma de capes i nanoestructuras. Esta activitat s'ha exercit fonamentalment en el marc de diferents projectes d'investigació dins de l'àrea de materials per a l'optoelectrònica i l'espintrónica. Els resultats obtinguts s'han plasmat en una significativa contribució acadèmica tant en articles en revistes d'àmplia difusió científica com en congressos i workskops. L'aproximació al sector tecnològic s'ha realitzat en dos àrees: la d'energia solar i la de sensors d'humitat i infrarojos. Per al desenvolupament d'aquesta activitat investigadora s'ha preparat un laboratori en què s'han instal·lat diferents tècniques de creixement cristal·lí: Bridgman, Physical Vapor Transport, Travelling Heater Method, MOCVD, Esprai Piròlisi, Hidrotermal; així com diferents tècniques de preparació i tractaments post-creixement, la qual cosa aporta una àmplia oferta d'infraestructures i possibilitats de desenvolupament. En relació amb la caracterització estructural i morfològica, els membres del grup tenen una...El grup de creixement cristal·lí de la Universitat de València centra la seua activitat en el creixement i la caracterització estructural i morfològica de semiconductors, tant en volum com en forma de capes i nanoestructuras. Esta activitat s'ha exercit fonamentalment en el marc de diferents projectes d'investigació dins de l'àrea de materials per a l'optoelectrònica i l'espintrónica. Els resultats obtinguts s'han plasmat en una significativa contribució acadèmica tant en articles en revistes d'àmplia difusió científica com en congressos i workskops. L'aproximació al sector tecnològic s'ha realitzat en dos àrees: la d'energia solar i la de sensors d'humitat i infrarojos. Per al desenvolupament d'aquesta activitat investigadora s'ha preparat un laboratori en què s'han instal·lat diferents tècniques de creixement cristal·lí: Bridgman, Physical Vapor Transport, Travelling Heater Method, MOCVD, Esprai Piròlisi, Hidrotermal; així com diferents tècniques de preparació i tractaments post-creixement, la qual cosa aporta una àmplia oferta d'infraestructures i possibilitats de desenvolupament. En relació amb la caracterització estructural i morfològica, els membres del grup tenen una contrastada experiència en difracció de raigs-X d'alta resolució (HRXRD) i microscòpia electrònica de transmissió d'alta resolució (HRTEM). La correlació de les propietats dels materials amb les condicions de creixement ha permés un millor coneixement dels processos de creixement i defectes estructurals i són l'eix de la part principal del treball del grup. En l'actualitat una bona part de l'activitat està centrada en els òxids de materials del grup II (ZnO, CdO i MgO) així com els seus aliatges. En aquest marc va estar el lideratge del projecte europeu SOXESS així com l'organització del Symposium IX en l'E-MRS sobre este tema. El grup col·labora de forma regular tant amb grups nacionals (U.Valladolid, U. País Basc, Institut Jaume Almera, (ISOM) UPM, com a estrangers (CNRS-Bellevue, França; Universitat del Warwick, Regne Unit; National Renewable Energy Lab. en Golden, Colorado, EE.UU.).
[Llegir més][Ocultar]
 
Pàgina Web:
 
Objectius cientificotècnics:
  • Crecimiento cristalino y caracterizacion de materiales para la optoelectronica UV y la espintronica
 
Línies d'investigació:
  • Creixement cristal·lí.Creixement de materials mitjançant les tècniques de: Bridgman, transport de zona calenta (THM), deposició en fase vapor (PVD), deposició química de vapor metal·loorgànic (MOCVD), espray piròlisi (SP). Actualment es duen a terme creixements de diferents tipus d'òxids (CdO, MgO, ZnO i aliatges).
  • Caracterizació estructural.Caracterització mitjançant les tècniques de difracció de raigs X d'alta resolució (HRXRD), difracció múltiple de raigs X (XRMD), microscòpia d'escombratge (SEM), microscòpia de transmissió d'alta resolució (HRTEM). Els materials analitzats poden ser en volum, en forma de capes o nanoestructures.
  • Propietats físiques.Caracterització de propietats físiques, amb especial èmfasi en les propietats òptiques: absorció, fotoluminiscència, espectroscòpia Raman.
 
Components del grup:
Nom Caràcter de la participació Entitat Descripció
VICENTE MUÑOZ SANJOSEDirector-aUniversitat de ValènciaCatedràtica/Catedràtic d'Universitat
Equip d'investigació
LUIS ARTUS SURROCACol·laborador-aConsejo Superior de Investigaciones Científicasinvestigador-a
RAMON CUSCO CORNETCol·laborador-aConsejo Superior de Investigaciones Científicasinvestigador-a
JOSE ANGEL GARCIA GARCIACol·laborador-aUniversidad del País Vasco Euskal Herriko Unibertsitateacatedràtic-a d'universitat
 
CNAE:
  • Otra investigación y desarrollo experimental en ciencias naturales y técnicas.
 
Estructura associada:
  • Física Aplicada i Electromagnetisme
 
Paraules clau:
  • Bridgman; THM; PVD; MOCVD; SP; CdO; MgO; ZnO
  • SEM; XRD; HRXRD; HRTEM
  • Propiedades fisicas de semiconductores